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据彭博社、华尔街日报等外媒报道,当地时间12月1日,美国商务部宣布,已同意向芯片初创公司xLight注资1.5亿美元。若交易成行,美国政府有可能成为xLight的最大股东。
美国商务部12月1日发布的一份新闻稿显示,隶属于美国国家标准与技术研究院(NIST)的商务部“芯片研发办公室”已签署了一份非约束性意向书,将向xLight公司提供至多1.5亿美元的资金,但未透露具体的持股比例。
这一次特朗普政府拨给xLight公司的资金,来自于美国前任总统拜登出台的《芯片法案》(Chips and Science Act),该法案旨在扶持拥有广阔技术前景的初创公司。这也是特朗普第二任期开始以来首个《芯片法案》奖励。但这笔激励目前处于初步阶段,尚未最终敲定。
针对这笔投资,美商务部长卢特尼克在一份声明中表示:“长期以来,美国将先进光刻技术的前沿阵地拱手让人。在特朗普总统的领导下,这种日子结束了……这项合作将支持一项能够从根本上改写芯片制造极限的技术。”
据《华尔街日报》介绍,xLight是一家半导体技术初创公司,正致力于攻克芯片制造领域最核心的瓶颈——光刻机光源技术,试图改进极紫外(EUV)光刻工艺。
目前,公司由原英特尔CEO帕特·基辛格担任执行董事长。去年年底,在英特尔遭遇财务业绩疲软和制造扩张停滞后,基辛格被董事会解雇,他于今年3月加盟了xLight。因此,该项目也被认为代表着基辛格的“东山再起”。
众所周知,在先进芯片制造领域,最关键的设备是将芯片图案打印到硅晶圆上的极紫外(EUV)光刻机,而荷兰公司阿斯麦(ASML)目前是EUV光刻机的全球唯一生产商,每台光刻机的成本高达数亿美元。
阿斯麦公司的EUV光刻机 图片转自路透社
而在光刻机内部,制造难度最大的部件是激光器。xLight正在开发基于自由电子激光(Free-Electron Lasers) 的大型“自由电子激光器”,以创造出更强大、更精确的光源,以取代目前在EUV光刻机中使用的激光器。
阿斯麦目前使用的最先进激光器产生的极紫外光波长约为13.5纳米。而xLight瞄准了更精确的波长,低至2纳米。如果xLight的研发取得突破,将有助于芯片制造商在硅晶圆上刻画出更微小的线条,或将加速半导体工艺的演进并重振“摩尔定律”。
根据摩尔定律,每块芯片上的晶体管数量,也就是芯片的计算能力,应该每两年增长一倍。
“我们正在唤醒摩尔定律。它一直在打盹。”基辛格表示。他还表示,这项新技术可以将晶圆加工效率提高多达30%至40%,并相信xLight的激光器比目前的光源消耗更少的能量。
“如果这家公司成功了,我们将改变半导体行业,”基辛格表示,“我们可以改善当前EUV的经济性,并为未来的EUV赋能。”
另一方面,美国政府此次注资芯片初创公司也被认为是特朗普“美国制造”计划的最新举措。
自今年初上台以来,特朗普频频挥舞关税大棒,以“威逼利诱”的方式要求外国企业加大在美投资以及鼓励美国企业回流。其目标在于将以芯片、半导体行业为首的先进制造业带回美国本土,以解决美国制造业衰退、贸易逆差和失业率问题。
不仅如此,美国政府近几个月已通过直接投资、贷款转股权、认股权证等方式入股了多家战略领域企业,覆盖半导体、关键矿产、稀土、锂资源等领域。包括英特尔(半导体领域)、Trilogy Metals(关键矿产领域)、美洲锂业(锂资源领域)、MP Materials(稀土领域)等。
而这一系列深度介入产业发展的举措业已引发争议。一些分析师批评称,这种做法是“国家资本主义”,并指责政府官员试图在市场上“挑选赢家和输家”。
本文系观察者网独家稿件,未经授权,不得转载。
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