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AG视讯
据彭博社、华尔街日报等外媒报道，当地时间12月1日，美国商务部宣布，已同意向芯片初创公司xLight注资1.5亿美元。若交易成行，美国政府有可能成为xLight的最大股东。
美国商务部12月1日发布的一份新闻稿显示，隶属于美国国家标准与技术研究院（NIST）的商务部“芯片研发办公室”已签署了一份非约束性意向书，将向xLight公司提供至多1.5亿美元的资金，但未透露具体的持股比例。
这一次特朗普政府拨给xLight公司的资金，来自于美国前任总统拜登出台的《芯片法案》（Chips and Science Act），该法案旨在扶持拥有广阔技术前景的初创公司。这也是特朗普第二任期开始以来首个《芯片法案》奖励。但这笔激励目前处于初步阶段，尚未最终敲定。
针对这笔投资，美商务部长卢特尼克在一份声明中表示：“长期以来，美国将先进光刻技术的前沿阵地拱手让人。在特朗普总统的领导下，这种日子结束了……这项合作将支持一项能够从根本上改写芯片制造极限的技术。”
据《华尔街日报》介绍，xLight是一家半导体技术初创公司，正致力于攻克芯片制造领域最核心的瓶颈——光刻机光源技术，试图改进极紫外（EUV）光刻工艺。
目前，公司由原英特尔CEO帕特·基辛格担任执行董事长。去年年底，在英特尔遭遇财务业绩疲软和制造扩张停滞后，基辛格被董事会解雇，他于今年3月加盟了xLight。因此，该项目也被认为代表着基辛格的“东山再起”。
众所周知，在先进芯片制造领域，最关键的设备是将芯片图案打印到硅晶圆上的极紫外（EUV）光刻机，而荷兰公司阿斯麦（ASML）目前是EUV光刻机的全球唯一生产商，每台光刻机的成本高达数亿美元。
阿斯麦公司的EUV光刻机 图片转自路透社
而在光刻机内部，制造难度最大的部件是激光器。xLight正在开发基于自由电子激光（Free-Electron Lasers） 的大型“自由电子激光器”，以创造出更强大、更精确的光源，以取代目前在EUV光刻机中使用的激光器。
阿斯麦目前使用的最先进激光器产生的极紫外光波长约为13.5纳米。而xLight瞄准了更精确的波长，低至2纳米。如果xLight的研发取得突破，将有助于芯片制造商在硅晶圆上刻画出更微小的线条，或将加速半导体工艺的演进并重振“摩尔定律”。
根据摩尔定律，每块芯片上的晶体管数量，也就是芯片的计算能力，应该每两年增长一倍。
“我们正在唤醒摩尔定律。它一直在打盹。”基辛格表示。他还表示，这项新技术可以将晶圆加工效率提高多达30%至40%，并相信xLight的激光器比目前的光源消耗更少的能量。
“如果这家公司成功了，我们将改变半导体行业，”基辛格表示，“我们可以改善当前EUV的经济性，并为未来的EUV赋能。”
另一方面，美国政府此次注资芯片初创公司也被认为是特朗普“美国制造”计划的最新举措。
自今年初上台以来，特朗普频频挥舞关税大棒，以“威逼利诱”的方式要求外国企业加大在美投资以及鼓励美国企业回流。其目标在于将以芯片、半导体行业为首的先进制造业带回美国本土，以解决美国制造业衰退、贸易逆差和失业率问题。
不仅如此，美国政府近几个月已通过直接投资、贷款转股权、认股权证等方式入股了多家战略领域企业，覆盖半导体、关键矿产、稀土、锂资源等领域。包括英特尔（半导体领域）、Trilogy Metals（关键矿产领域）、美洲锂业（锂资源领域）、MP Materials（稀土领域）等。
而这一系列深度介入产业发展的举措业已引发争议。一些分析师批评称，这种做法是“国家资本主义”，并指责政府官员试图在市场上“挑选赢家和输家”。
本文系观察者网独家稿件，未经授权，不得转载。
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